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          半導體硅片生產用超純水處理設備

          產品介紹
          硅片,是制作集成電路的重要材料,通過對硅片進行光刻、離子注入等手段,可以制成各種半導體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力。科學技術的發展不斷推動著半導體的發展。自動化和計算機等技術發展,使硅片(集成電路)這種高技術產品的造價已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應用于航空航天、工業、農業和國防,甚至悄悄進入每一個家庭。
          工藝設計
          1、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
          2、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
          3、原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
          設備特點
          1、連續運行禪水質穩定品質更佳。
          2、系統運行可靠性穩定。
          3、運行成本低。
          4、占地面積小。
          5、自動化程度高。
          6、操作及維護簡單,無需接觸酸堿。
          7、使用安全及環境良好。
          8、無污水排放,無環境污染。
          技術參數
          電導率:2-10μS/cm(25℃)
          PH值:6.5-9
          水溫度:5~35℃
          總硬度:<0.5ppm
          有機物:<0.5 ppm,TOC為零
          氧化物:≤0.05ppm
          鐵、錳:<0.01ppm
          二氧化硅:<0.05 ppm
          二氧化碳:<5ppm
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